RT - Journal Article T1 - The study of advanced oxidation process (UV/H2O2) performance in removal of the ceftriaxone antibiotic from aqueous solution JF - Yafteh YR - 2014 JO - Yafteh VO - 16 IS - 1 UR - http://yafte.lums.ac.ir/article-1-1584-fa.html SP - 23 EP - 31 K1 - Advanced oxidation K1 - UV/ H2O2 K1 - Ceftriaxone K1 - Water solution AB - مقدمه: حضور آنتی‌بیوتیک‌ها در منابع آبی، نشانگر ناکارآمدی فرآیندهای متداول تصفیه در حذف آ‌ن‌ها می‌باشد. هدف از این مطالعه بررسی اثربخشی روش اکسیداسیون پیشرفته UV/H2O2 در حذف سفتریاکسون از محیط آبی در مقیاس آزمایشگاهی است. مواد و روش‌ها: این تحقیق یک مطالعه تجربی است که در مقیاس آزمایشگاهی و در راکتوری با حجم 5800 میلی لیتر انجام شده است. محلول آبی حاوی آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون با غلظت‌های 9، 18 و 27 میلی‌گرم در لیتر ساخته شد. اثر غلظت اولیه آنتی‌بیوتیک، pH، زمان ماند، ولتاژهای مختلف لامپUV و غلظت H2O2 بر راندمان حذف این آلاینده از محیط آبی مورد مطالعه قرار گرفت. برای اندازه گیری غلظت سفتریاکسون از HPLC استفاده شد. بحث و نتیجه‌گیری: روش اکسیداسیون پیشرفته با استفاده از UV/H2O2 در شرایط مناسب محیطی قادر به حذف مؤثر آنتی بیوتیک سفتریاکسون از محیط‌های آبی می‌باشد. یافته‌ها: نتایج حاصل از این مطالعه نشان داده است که روش UV/H2O2قادر به حذف 75% سفتریاکسون از محلول آبی حاوی 9 میلی‌گرم در لیتر، با زمان ماند 3 ساعت می‌باشد. میزان حذف سفتریاکسون متأثر از پارامترهای pH، غلظت اولیه سفتریاکسون، غلظت H2O2 و شدت تابش اشعه UV می‌باشد. به طوری‌که در pHهای اسیدی (pH برابر 3) و غلظت پایین سفتریاکسون (9 میلی گرم بر لیتر)، غلظت H2O2 برابر 15 میلی گرم در لیتر و شدت تابش بالا (36 وات) راندمان بالاتری در حذف آنتی بیوتیک حاصل شده است. LA eng UL http://yafte.lums.ac.ir/article-1-1584-fa.html M3 ER -